Runway 擴展 Workflows，新增合成、Alpha、HDR 及深度圖
Runway 宣布，全新擴展的 Workflows 已於 Runway 推出。是次更新現包括 合成、Alpha、HDR、深度圖 及 RGB 深度。公司表示，這讓用戶能在同一地方構建更多製作流程。
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Runway MCP 可直接連接 Claude 生成圖像與影片
Runway MCP 可直接連接 Claude，包括 Claude Opus 5.5，並以 Gen-4.5、Seedance 2.5、GPT Image 2、Kling 及其他模型生成圖像與影片。
Runway 新增 Layers，可將圖片拆成可編輯圖層
Runway 推出 Layers，一鍵即可將任何圖片拆成可編輯圖層，用戶可移除背景、編輯文字，並單獨重做個別元素，全程無需離開 Runway。
Runway 現已可在 DaVinci Resolve 使用
在 DaVinci Resolve 內，Runway 可直接在時間軸上生成、編輯及提升解像度，無需離開專案。
Runway 為其 AI Summit 列出 AI Diplomacy 場次
Runway 為 Runway AI Summit 列出「AI Diplomacy in a Divided World」，講者為 Julian Simcock 與 Rick Ingram。2026年9月23日，Runway 表示峰會還有一週便會舉行。
Runway 公布 AI Summit 場次，講者來自 Nvidia、Google DeepMind 與 Wayve
Runway AI Summit 將於 2026 年 9 月 23 日後一週舉行。已公布的場次為「將智能落地於物理世界」，講者包括 Ming-Yu Liu、Jon Barron 及 Alex Toshev。