Runway 扩展工作流，新增合成、Alpha、HDR 和深度图
Runway 宣布，新的扩展工作流现已在 Runway 中推出。此次更新现已包含合成、Alpha、HDR、深度图和 RGB 深度。该公司表示，这让用户能够在同一处构建更多管线。
相关AI快讯
Runway MCP 接入 Claude，用于图像与视频生成
Runway MCP 可以直接接入 Claude，包括 Claude Opus 5.5，并使用 Gen-4.5、Seedance 2.5、GPT Image 2、Kling 及其他模型生成图像和视频。
Runway 新增 Layers，可将图片拆分为可编辑图层
Runway 推出 Layers，一键将任意图片拆分为可编辑图层，用户可在 Runway 内去除背景、编辑文字并单独调整各个元素。
Runway 现已登陆 DaVinci Resolve
在 DaVinci Resolve 中，Runway 可直接在时间线上生成、编辑和放大，无需离开项目。
Runway 为 AI Summit 列出 AI Diplomacy 环节
Runway 将“AI Diplomacy in a Divided World”列入 Runway AI Summit，出场者包括 Julian Simcock 与 Rick Ingram。2026 年 9 月 23 日，Runway 表示峰会还有一周开幕。
Runway 宣布 AI Summit 将举办一场由 Nvidia、Google DeepMind 与 Wayve 参与的会议
Runway AI Summit 定于 2026 年 9 月 23 日之后一周举行。已公布的会议为 Grounding Intelligence in the Physical World，参与者包括 Ming-Yu Liu、Jon Barron 与 Alex Toshev。